選擇萃取設(shè)備時必須考慮的3個要點
當(dāng)一相成細滴狀態(tài)不斷地分散到另一相時，便可得到大的界面積。質(zhì)量傳遞系數(shù)的大小取決于兩相間的傳質(zhì)方式。從擴散機理看，擴散有分子擴散和渦流擴散，前者速度很慢，而后者是快速傳遞的前提，當(dāng)加入外界能量，保證液相間有湍動面時，便可以連續(xù)地進行渦流擴散，提高傳遞速率。濃度差A(yù)C(或濃差作用力)與界面湍動程度有關(guān)，當(dāng)兩相進行無回流的、理想逆流流動時，濃度差A(yù)C在界面間達到最大，如果有軸向混合，即停留時間不均勻時，則使傳遞效率降低。
根據(jù)以上所述，在實踐中一方面可以采用重力法分散兩相，另外一方面可以在萃取設(shè)備內(nèi)加入外界能量——噴霧、攪拌或脈沖等方式提高傳遞速率。顯然，希望質(zhì)量傳遞速率應(yīng)盡可能大，而萃取設(shè)備應(yīng)盡可能小。當(dāng)然在保證高傳遞速率下，當(dāng)實際產(chǎn)量增大時，磨粉機設(shè)備就需要相應(yīng)地增大。
在萃取設(shè)備中，按兩相接觸方式，可分為兩大類：連續(xù)接觸式(也稱為微分接觸式)和間斷接觸式(也稱為階段接觸式)，前者相組成連續(xù)地或接近于連續(xù)地改變，后者具有一定數(shù)目的分離段，每一段料液混合之后進行分離。
選擇萃取設(shè)備時，必須考慮如下的3個要點：①有效接觸所需的級數(shù);②通過的流量;⑧停留的時間。
此外，還要考慮兩相的比重，雷蒙機設(shè)備清洗的難易及廠地面積等。如果廠地高度不夠可采用臥式設(shè)備，如廠地面積窄小，則可采用立式設(shè)備。