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中科大光學成像技術邁入“納米時代” 成像精度4.1納米

放大字體??縮小字體 發(fā)布日期:2015-01-12
核心提示:中科大中科院量子信息重點實驗室孫方穩(wěn)研究組利用光學超分辨成像技術,突破光學衍射極限,實現對單個自旋態(tài)的納米量級空間分辨率測量和操控,成像精度達4.1納米。
      中科大中科院量子信息重點實驗室孫方穩(wěn)研究組利用光學超分辨成像技術,突破光學衍射極限,實現對單個自旋態(tài)的納米量級空間分辨率測量和操控,成像精度達4.1納米,為光學衍射極限的1/86,超越2014年諾貝爾化學獎獲得者斯特凡·W·赫爾教授等人實現的光學衍射極限1/67的精度。
 
  人的肉眼能分辨0.1毫米尺度的物體,再小就要借助工具才能看清。1665年,英國科學家羅伯特·虎克制造了第一臺用于科學研究的光學顯微鏡,但由于存在一道無法逾越的“墻”——光學衍射極限,光學顯微鏡也不能無止境地“放大”下去。 1873年,德國科學家阿貝提出衍射極限理論。根據此理論,光學顯微鏡分辨率極限只能達到300納米左右。
 
  由中科大校友、哈佛大學教授莊小威等科學家發(fā)明的超分辨成像技術,成像精度達到幾十個納米,把傳統成像分辨率提高了10倍到20倍,好比一個近視眼的人突然戴上了合適的眼鏡,成為研究細胞結構和物理測量的利器。實驗中,中科大孫方穩(wěn)研究組利用50毫瓦泵浦激光,完成了對氮-空位色心的高分辨成像,精度達4.1納米。此外,基于該電荷態(tài)耗散成像技術和微波調控技術,他們還實現了高空間分辨率的自旋量子態(tài)的操作和測量,演示了高分辨率的磁場測量。這一成像技術原理與斯特凡·W·赫爾教授發(fā)明的受激發(fā)射耗散成像技術類似。
 
  研究成果1月2日發(fā)表在《自然》子刊《光:科學與應用》上。這一技術不僅可用于納米尺度的高精度電磁場測量,今后還可能在量子信息技術、生命科學研究等領域得到廣泛應用。
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